题 目：软X射线干涉光刻技术及其应用
报告人：赵俊 正高级工程师
单 位：中国科学院上海高等研究院
主持人：孙海涛 研究员
时 间：12月4日（周四）下午2:30-3:30
地 点：光学大楼A508会议室
报告摘要：
软X射线干涉光刻技术是一种基于软X射线波段相干光束干涉原理的高精度图案化方法，能够在光刻胶上制备出周期性或准周期性纳米结构。该技术的显著优势在于可突破传统光学光刻的衍射极限，实现半节距低至10nm及其以下的分辨率。该技术目前主要基于同步辐射光源所提供的高空间相干性与高通量光子密度，并需结合分束光栅、精密运动控制平台以及光学仿真等核心系统协同工作。其中，分束光栅的制备质量直接决定系统分辨率上限，上海光源团队通过创新工艺成功实现了周期40nm光栅的自主研制，为10nm及其以下分辨的光刻工艺奠定了坚实基础。在应用方面，该技术目前主要用于极紫外（EUV）光刻胶的光刻性能评估（包括分辨率、灵敏度与线边缘粗糙度等关键参数）、自溯源纳米标准物质的研发，以及光子晶体等新型功能材料的制备。上海光源软X射线干涉光刻线站作为国内最早建成的专业级EUV光刻胶检测平台，集成了干涉光刻、泰保光刻和大面积拼接曝光等多种技术模式，已为国内多个科研团队提供关键技术支撑，相关成果发表于多个高水平学术期刊。
个人简介：
赵俊，中国科学院上海高等研究院正高级工程师，复旦大学电子信息工程博士，硕导。长期致力于同步辐射EUV实验方法和微纳加工工艺研究。提出基于高次谐波对准的大面积拼接软X射线干涉光刻方法，为高精度纳米结构高效制备提供新途径。发展了自溯源光栅倍频工艺，合作研制出达到国际先进水平的纳米节距标准物质，并获得国家一级标准物质定级证书。近年来在国内外重要期刊发表论文50余篇。作为项目核心成员完成的"极紫外光刻胶光刻性能检测关键技术及应用"成果荣获2023年度中国感光学会技术发明一等奖。